Sun Chemical lancia un nuovo inchiostro per supporti morbidi
In occasione di FESPA Digital 2014, che si terrà a Monaco (Germania) dal 20 al 23 maggio 2014, Sun Chemical presenterà il suo portfolio di inchiostri per l'aftermarket digitale, tra cui una nuova soluzione per supporti morbidi.
A questa nuova edizione di FESPA Digital, Sun Chemical presenterà il nuovo prodotto che arricchisce ulteriormente la gamma di inchiostri Streamline: Streamline TX, inchiostro tessile per la stampa a sublimazione diretta per applicazioni su supporti morbidi. Questo inchiostro tessile è stato sviluppato per rispondere alla crescente richiesta di materiali sintetici e in poliestere per cartellonistica.
Streamline TX sarà dimostrato presso lo stand di Sun Chemical. L'inchiostro per stampa a sublimazione diretta offre colori brillanti e neri intensi, fattori chiave per applicazioni di forte impatto. Grazie alla sua penetrazione nel tessuto, offre inoltre eccellenti qualità di visibilità sull'altro lato particolarmente apprezzate da stampatori di bandiere e stendardi, poiché l'immagine resta di aspetto simile su entrambi i lati del tessuto.
Tony Cox, Business Manager Aftermarket Products di Sun Chemical, spiega: "Abbiamo parlato di Streamline TX a FESPA 2013 e, sulla base dei commenti ricevuti dai clienti in tale occasione, abbiamo individuato come migliorare ulteriormente il prodotto, che è ora pronto per il mercato. FESPA Digital 2014 rappresenta l'occasione giusta per il suo lancio. Il mercato dei supporti morbidi è cresciuto notevolmente negli ultimi anni, con preferenze per substrati quali materiali tessili basati su poliestere utilizzati per prodotti quali bandiere, striscioni e cartellonistica flessibile. Streamline TX è un'importante aggiunta alla nostra gamma di prodotti esistenti per l'aftermarket digitale."
Oltre a Streamline TX, presso lo stand Sun Chemical saranno disponibili altri prodotti della famiglia di inchiostri Streamline. All'evento verranno mostrati anche inchiostri di successo Sun Chemical quali Streamline ESL HPQ basato su solvente, Ultima HPQ e Optima HPQ, che dal loro lancio nel luglio del 2012 hanno generato un notevole incremento del business.
Tony spiega inoltre: "La nostra gamma di prodotti aftermarket offre proprietà fisiche e cromatiche equivalenti ai prodotti originali, che consentono di passare agli inchiostri Sun Chemical in modo rapido, semplice e privo di rischi. I nostri inchiostri rappresentano una soluzione interessante per gli stampatori alla ricerca di un'alternativa agli inchiostri OEM. FESPA 2013 è stato per Sun Chemical un evento di grande successo e sono certo che tale successo verrà replicato a Monaco."
